紫外臭氧清洗機是利用紫外線（UV）照射產(chǎn)生臭氧（O?），對材料表面進行清潔、活化或去除有機物污染的設(shè)備，廣泛用于半導體、光學、實驗室等對表面潔凈度要求較高的領(lǐng)域。

參數(shù)直接決定清潔效果和適用范圍，核心指標如下：

紫外線波長：需同時包含 185nm（臭氧生成）和 254nm（有機物分解），部分機型可調(diào)節(jié)波長占比，適配不同污染類型。

紫外線強度：通常為 10-100mW/cm²，強度越高，臭氧生成速度越快，有機物分解效率越高。

處理時間：一般為 1-30 分鐘，短則用于輕度清潔，長則用于重度有機污染。

腔體容積：小型機5-50L，大型機100-500L，需根據(jù)待清潔工件尺寸選擇。

氣源要求：可通入空氣或純氧，通入純氧時臭氧濃度更高，清潔效率提升30%-50%。

紫外臭氧清洗機的操作規(guī)程：

使用前仔細檢查設(shè)備的外觀是否完好，各部位是否固定牢固。

確保設(shè)備處于關(guān)機狀態(tài)，電源線插頭未插入插座。

操作人員應佩戴防護眼鏡和手套等防護用品。

將被清洗物品放置于設(shè)備的清洗區(qū)域，按下開機鍵，選擇所需的清洗模式并設(shè)定時間。

清洗完畢后，手動關(guān)閉設(shè)備，調(diào)整清洗區(qū)域中的物品。

維護保養(yǎng)：

每次使用完畢后，必須清洗設(shè)備表面和各部件以及紫外燈照射區(qū)域。

定期更換紫外燈以及清洗物料與過濾網(wǎng)。

新燈泡更換后，要關(guān)閉后上電檢測，確保燈泡是否更換成功。

定期對設(shè)備進行全面檢查和保養(yǎng)，以確保設(shè)備的正常運行和清洗效果。